Plasma
Erzeugung Plasma
künstlich meist mithilfe von Ar erzeugt
ICP-OES Aufbau
inductively coupled plasma optical emission spectiometry
T plasma = 4.000-10.000 K

Aufbau Zerstäuber Sprühkamer
Zerstäubung der Probe zu Aerosol => Atomarisierung weniger Atome
Argon als Trägergas des Aerosols
große Tropfen sinken ab kleine werden im Strom mitgerissen

Möglichkeiten der ICP-OES
Paschen Runge Spektrometer
Mischungen Möglich

Echelle Spektrometer Funktion
Echelle Gitter trennt Licht (nur spezielle Wellenlängen werden an den Stufen reflektiert und deren Oberschwingen
Prisma trennt Licht auf und erzeugt 2D Spektrum

Echelle Spektrometer mit CCD
Vorteile Nachteile
charge coupled device
produziert keine Ströme (Photomultiplier) sondern Ladungen die ausgelesen werden können
ICP-MS
Plasma als Ionenquelle für MS
Prozesse Plasma
Problem
ICP benötigt 15L Ar pro min aber AUftrennung der erzeugten Ionen im MS erfordert Hochvakuum

Schmea Aufbau ICP MS
Probe wird in Zerstäuber und Sprühkammer gepumpt
aerosol in plasma flamme
erzeugte Ionen gelangen ins Vakuum in den Messgeräten
Trennung der Ionen durch B und E Feld (maknetische und elektrostatische Ablenkung

Vorteile MS und ICP-MS
Vorteil ICP OES
allg MS
Trennprinzipien MS
E-Feld
B-Feld
entscheident für Trennung sind unterschiedliche Verhältnisse von Masse zu Ladung
Quadrupol
Auflösung
R=300-400 amu
<100 amu zahlreiche Störrungen
Alternative Quadrupol
gleiche Trennprinzipien
ABER Auflösung R > 10.000 amu max(100.000)
